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曝光机镜组雾化防护设备
产业类别：生产力&能源精品
产品型号：TAU
奇鼎科技股份有限公司
本公司开发之「半导体镜组雾化防护设备」为全球首创可去除气状分子微污染物(AMC)的精密温控设备，唯一根本解决曝光机问题，在半导体与光电产业，大幅提升制程良率和效率。
独创革命性水去除原理，替代坊间以化学滤网、沸石转轮或蓄热焚化方式等高危险性、高污染、高价格的去除方式。
【产品效益】
1.
2.若使用化学滤网，约6至8个月需要清洗镜组，一旦停机，对产能影响甚巨，使用本设备后，至少6年毋须清洗镜组。
3.曝光机动辄一台1亿台币，本参选产品可防止AMC腐蚀曝光机零组件，延长其使用年限。正常蒸发器1到2年后开始锈蚀，2到5年后破损，需定期更换，使用本设备6年后，曝光机蒸发器状态如新，无任何锈蚀状况。
4.除提升产品良率，减少业主70%保养成本。
【产品规格】
洁净度控制：Class 4
温度控制精度：±0.5°C~±0.05°C
湿度控制精度：±5%RH~±0.5%RH
AMC去除效率：>90% in main AMC
传统化学滤网一年需更换4次，本设备内部AMC去除材料6年内不须更换，耗材更迭率低，更为环保。
关于 奇鼎科技股份有限公司
奇鼎以潔淨氣流的精準控制為核心技術，自2006年至今不斷創造核心技術的新價值，包括高精密製程環境控制、化學汙染物監測、節能服務、無塵室系統工程和潔淨醫療方案。致力於協助高科技製造業優化製程良率及產品品質、超越創新先驅成為世界級氣流工藝的佼佼者。 奇鼎為落實品質控制及環境保護，目前已通過ISO 9000、ISO 14001及OHSAS 18001的認證。 我們以信實誠懇的態度，提供創新的服務，展望全球市場，打造卓越品牌。『為更好的科技，創造完美的環境』是奇鼎對於工藝和經營的信念，也是全體不斷追求的目標。
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